Aplicación del interferómetro de luz blanca en perfiladores verticales

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Escrito por

JATEN

Publicado
Jun 03 2025
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1. Introducción
En la fabricación de precisión, el procesamiento de semiconductores y la ingeniería de superficies a escala micro/nanométrica, la demanda de mediciones precisas de perfiles de superficies verticales continúa en aumento. Los métodos tradicionales de contacto o de baja resolución suelen ser insuficientes en términos de precisión y eficiencia. Los perfilómetros verticales, especializados en mediciones de altura de superficies sin contacto, emplean cada vez más la interferometría de luz blanca (WLI) como técnica principal debido a su alta precisión y robustez. Este artículo presenta los principios de funcionamiento de la WLI y explica cómo permite una resolución vertical a escala nanométrica en la perfilometría vertical.

2. Fundamentos de la interferometría de luz blanca
La interferometría de luz blanca utiliza una fuente de luz de banda ancha, como un LED o una lámpara halógena, y se basa en el principio del interferómetro de Michelson. La luz se divide en un haz de referencia y un haz de medición. Tras la reflexión en el espejo de referencia y la superficie de la muestra, los haces se recombinan para formar franjas de interferencia.

A diferencia de la luz monocromática, la luz blanca tiene una longitud de coherencia muy corta. Por lo tanto, las franjas de interferencia solo aparecen cuando la diferencia de trayectoria óptica entre los dos haces es casi nula. Esta propiedad permite la localización precisa de la altura de la superficie a lo largo del eje vertical.

3. Arquitectura del sistema de perfilómetros verticales mediante WLI
Un perfilómetro vertical típico basado en WLI consta de los siguientes módulos clave:

Fuente de luz de banda ancha: proporciona luz de espectro continuo en el rango visible;

Objetivo interferométrico (por ejemplo, tipo Mirau o Linnik): combina los haces de referencia y de medición;

Mecanismo de escaneo del eje Z: mueve el cabezal interferométrico o la muestra verticalmente con precisión a escala nanométrica;

Sistema de imágenes: captura secuencias de imágenes de interferencia utilizando una cámara CCD o CMOS;

Algoritmo de procesamiento de imágenes: analiza la variación del contraste de franjas en cada píxel para determinar la altura de la superficie.

4. Lograr una resolución vertical a escala nanométrica
La capacidad principal de la perfilometría basada en WLI reside en su resolución vertical, que se logra mediante algoritmos específicos:

Detección de picos de envolvente: Adecuado para superficies rugosas o escalonadas; determina la altura de la superficie localizando la posición de máximo contraste en la envolvente de interferencia. Resolución típica: 1–10 nm.

Interferometría de desplazamiento de fase: ideal para superficies lisas; analiza los cambios de fase de las franjas de interferencia para extraer información de altura subnanométrica.

Estos algoritmos se pueden combinar o seleccionar automáticamente según el tipo de superficie, lo que permite que el sistema se adapte a diversos escenarios de medición.

5. Ventajas y limitaciones
Ventajas:

Medición sin contacto y no destructiva;

Alta resolución vertical (hasta 1 nm);

Aplicable a superficies reflectantes, transparentes o moderadamente rugosas.

Limitaciones:

Sensible a las vibraciones ambientales, se recomiendan sistemas de aislamiento;

Capacidad limitada para medir paredes laterales empinadas o zanjas profundas;

Mayor costo, más adecuado para aplicaciones de gama media a alta con requisitos estrictos de precisión.

6. Conclusión
La interferometría de luz blanca (WLI) es una técnica óptica consolidada que permite a los perfilómetros verticales realizar mediciones de superficies sin contacto de alta resolución. Con una sólida base física y una fiabilidad demostrada, la WLI se ha aplicado ampliamente en las industrias de semiconductores, óptica y materiales de precisión. De cara al futuro, su integración con sistemas de escaneo más rápidos, algoritmos mejorados y plataformas automatizadas ampliará aún más sus capacidades en metrología de alta precisión.

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